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日本实用新型专利

随着近年来技术革新的进展及加速,对于实用新型专利申请来讲,申请后早期开始实施的越来越多,再加上产品的生命周期日趋短缩,对于这样的技术早期给予权利保护的要求也变得日益显著。

为适应早期给予权利保护的要求,不进行新规性(相当于中国专利法的新颖性)、进步性(相当于中国专利法的创造性)等的实质审查、采用只要满足登记所必要的一定条件(称为基础条件)就可以授予权利的早期登记制度。(1994年1月1日起施行)。

 以下是从申请到取得权利的流程图。※括号内为相应中国专利用语

 

(1)出愿(申请)

专利申请可以不必有附图,但是实用新型专利申请必须有附图。
申请时必须向特许厅提交法令规定的文件。
申请时须缴纳从第一年到第三年的登记费。

(2)审查

实用新型的审查不存在相同于专利申请一样的审查请求制度。
不需经过实质审查(新规性、进步性等),加上以前的方式审查,还审查以下列举的基础条件。

与物品的形状、构造或组合相关的技术方案
不违反公共秩序和善良风俗
满足权利要求的记载样式及申请的单一性
说明书或附图中记载了必要的事项,且记载内容没有明显的不明确之处
如果方式上的条件或者基础条件未满足,将会被命令进行补正。对于补正没有答复时申请手续将被驳回。
(3)设定登录(登记)

满足方式上的条件及基础条件的申请,不需经过实质审查就可以进行实用新型专利的登记。但是诸如以上所述,第一年到第三年的登记费必须在申请的同时缴纳。

(4)公报的发行(出版专利公报)

实用新型专利登记后,其技术方案内容将登载在公报上,首次公开。

(5)技术评价书的请求(实用新型检索报告)

实用新型检索报告,是对登记的实用新型的权利有效性进行客观判断的材料,也是审查官调查现有技术文献所作成的资料。申请以后任何人都可随时对此进行请求。

由于实用新型专利权是不需经过实质审查就可登记的权利,所以申请时对现有技术进行充分的调查,根据调查结果来决定是否进行申请是非常重要的。

 





 
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